Optics Japan 2004



4pP15 陳 軍

多光子吸収による導電性高分子の微細パターン形成

導電性高分子のパターン形成法はプリンタブル回路の作製等において重要である。我々は超短パルスレーザによる多光子励起発光を析出位置の決定基準として用い、基板表面への導電性高分子の微細パターン形成に成功したので報告する。



Optical Society Of Japan
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